多弧离子镀沉积过程的计算机模拟

出版日期:2013-4
ISBN:9787502462277
作者:赵时璐
页数:232页

作者简介

《多弧离子镀沉积过程的计算机模拟》系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章,主要内容包括:绪论;真空镀膜技术的介绍;多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础;多弧离子镀物理过程的分析;计算机模拟技术;数学模型的建立;程序的编制;模拟的结果;模拟结果的讨论与验证;6个模块的主要程序代码等。


 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟下载



发布书评

 
 


 

外国儿童文学,篆刻,百科,生物科学,科普,初中通用,育儿亲子,美容护肤PDF图书下载,。 零度图书网 

零度图书网 @ 2024