出版社:五南
出版日期:2001年09月01日
ISBN:9789571125664
作者:張勁燕
内容概要
張勁燕
逢甲大學電機系副教授
书籍目录
第1章 晶體成長和晶圓製作
第2章 磊晶沉積設備
第3章 微影照相設備
第4章 化學氣相沉積爐
第5章 氧化擴散高溫爐
第6章 離子植入機
第7章 乾蝕刻機
第8章 蒸鍍機
第9章 濺鍍機
第10章 化學機械研磨
作者简介
半導體元件由矽土製成矽晶圓， 再經數百個製程步驟，才製作出256M級的DRAM。這期間所使用的機器，主要的也不過十數種。晶圓成長爐、磊晶反應器、步進照像儀、化學氣相沉積爐、氧化和擴散高溫爐、離子植入機、乾蝕刻機、電子束蒸鍍機、濺鍍機、化學機械研磨機等。以及封裝製程設備、真空幫浦及系統洗淨機器等主要支援設備。本書對這些機器的構造和操作原理都有詳盡的敘述。
砷化鎵Ⅲ–Ⅴ化合物半導體製程，如金屬有機化學氣相沉積爐、分子束磊晶和銅製程使用設備、低介電常數介電製作設備以及一些2000千禧年推出的新機器，也都在本書有詳盡的敘述，次世代先進的製程設備也有一些介紹。