表面和薄膜过程导论

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出版社:世界图书出版公司北京公司
出版日期:2003-11
ISBN:9787506265553
作者:J.A.Venables
页数:372页

书籍目录

PrefaceChapter 1 Introduction to surface processes1.1 Elementary thermodynamic ideas of surfaces1.2 Suface energies and the Wulff throrem1.3 Thermodynamics versus kinetics1.4 Introduction to surface and adsorbate reconstructions1.5 Introduction to surface electronicsFurther reading for chapter1Problems for chapter 1Chapter 2 Surfaces in vacuum ultra-high vacuum techniques and processes2.1 Kinetic thery concepts2.2 Vacum concepts2.3 UHV hardware:pumps,tubes,materials and pressure measureent2.4 Surface rpeparation and cleaning procedures in situ experiments2.5 Thin film deposition procedures:sources of informationFurther reading for chapter2Problems for chapter2Chapter 3 Electron-based techniques for examinnig surface and thin film processes3.1 Classification of suface and microsopy techniques3.2 Diffraction and quasi-elastie scattering techniques3.3 Inlastic scattering techniques;chemical and electronic state information3.4 Quantification of Auger spectra3.5 Microsopy-spectroscopy SEM SAM SPM etc.Further reading for chapter3Problems talks and projects for chapter 3Chapter 4 Surface processes in adsorptionChapter 5 Surface processes in epitaxial growthChapter 6 Electronic structure and processes at metalic surfacesChapter 7 Semiconductor surfaces and interfacesChapter 8 Surface procces in thin film devicesChapter 9 Postscript-where do we go from here?RerferencesIndex

作者简介

表面和薄膜科学是微电子、光电子和磁工业的物理基础,是现代社会技术进步的科学保证。在微观以至原子水平上研究和操纵表面让我们能够理解许多具有重要技术意义之器件的制作与运行。本书关注发生在表面和薄膜中的物理过程,详细介绍了与表面和薄膜相关的物理过程,包括热力学与运动学的理论基础,洁净表面的制备和表面的表征与分析技术,表面吸附与脱附过程,金属和半导体表面性质,外延生长和薄膜器件的表面过程等等内容。
  本书是作者积长期在欧洲和美国的大学从事电子显微学和表面科学的研究与教学实践的丰富经验而写成的,是一本优秀的研究生教科书。本书叙述条理清楚,语言流畅,
每章末有习题和相关的参考文献,书末给出了大量的参考文献,附录中介绍了查阅相关资料的互联网网址。
  读者对象:物理学、化学、材料科学和材料工程方面的科研人员和研究生。

  此书为英文版!

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