基于光电器件用氧化铟基透明导电薄膜

内容概要

张波，男，江苏扬州人，工学博士，近年来被列为江苏省“青蓝工程”优秀青年骨干教师培养对象，获得常州市

青年岗位能手、常州市优秀科技工作者等称号。研究方向为材料成型与控制技术和等离子体技术应用。

书籍目录

FRONT MATTER

Chapter 1 Transparent Conductive Oxide Thin Film and Indium Tin Oxide Film

第一章 透明导电氧化物薄膜与氧化铟锡薄膜

Chpater 2 The Properties of a Total of Sputtering of Zirconium Doped Indium Tin Oxide Thin Film

第二章 共溅射法制备锆掺杂氧化铟锡薄膜的特性

Chapter 3 Indium Oxide and Its Doped Electronic Band Structure Calculation

第三章 氧化铟及其掺杂的电子能带结构计算

Chapter 4 The Properties of a Total of Sputtering of Tantalum Doped Indium Tin Oxide Thin Film

第四章 共溅射法制备钽掺杂氧化铟锡薄膜的特性

Chapter 5 The Environmental Stability and Surface Energy Doped Indium Tin Oxide Film

第五章 掺杂氧化铟锡薄膜的环境稳定性和表面能

作者简介

氧化铟锡（或掺锡氧化铟，简称ITO）薄膜作为典型的透明导电氧化物（简称TCO）材料广泛应用于平面显示、太阳 能和有机发光器件等领域。ITO薄膜的性能主要依赖于其氧化状态和掺杂元素的特性，对于能带结构的研究表明可以 通过掺杂而提高其导电性和拓宽其光学禁带。目前ITO薄膜的主要应用领域一般是作为单一的电学涂层或光学涂层， 即利用其金属导电性和光学透明性，但其导电性和透明性仍需进一步提高，同时ITO薄膜的化学和热不稳定性以及低 表面能限制了ITO薄膜的进一步应用，应该开发出高质量的TCO薄膜，以开拓更广的应用领域，而提高ITO薄膜的综合 性能是当前研究的一个重要方向。在我国曾出版过不少关于这方面的书，但好多内容陈旧，新近的文章和书籍虽然不 少，但都比较分散和各有侧重点，一些新颖的观点尚未反映在书中，一本内容新颖并具有理论和工程实践意义的专著， 是作者多年的梦想。

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