摄影曝光控制

出版社:北京印刷一厂
出版日期:1984-6-1
ISBN:SH15061-200
作者:刘国典
页数:133页

内容概要

刘国典,教授,男,汉族,1932年1月26日生于湖南安乡,1950年任湖南文教厅电影总队队长。1952年调至北京电影制片厂新闻摄影总队,曾随中国人民抗美援朝志愿军从事战地摄影。1954年人北京电影学校进修,1956年毕业后留校,先后从事《电影摄影技术》和影像工程技术等课的教学工作。曾任摄影技术教研组组长,摄影系副主任、摄影教研室主任、学院学术委员会主任等职。1988年调广播电视部电影局任总工程师。1992年12月任北京电影学院院长。
在1969年至1978年从事科研期间曾任中央军委电影工业协作指导小组光学组成员、滤色镜研究组长。"滤色镜系列研究"及其生产,获全国科学大会"重大科研成果奖"、文化部"重大科研成果奖","摄影曝光计研究"及其生产获文化部"重大科研成果奖"。
发表过有关提高电影技术整体水平,巩固新形式电影开发成果,改进电影环保、素材、洗印、摄影规范和拷贝技术质量等的管理、技术问题的论文20余篇;负责执笔制订《电影技术政策》并付诸实施。已出版的著作有《摄影曝光控制》、《摄影滤光器与影调控制》、《影调控制与电影摄影机》、《摄影曝光计》等。其中,《摄影曝光控制》一书,先后获广播电影电视部优秀教材一等奖、国家教委优秀教材奖(国家一级),该教材先后应邀在部队、中国摄影家学会、中央有关部、委和多所综合大学等100多个教学研讨班进行过学术专题讲授。


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